フッ素系不活性液体の配管の接続箇所で液ダレをゼロにした事例

半導体の製造工程の前工程にてシリコンウエハの表面に反応ガスによる薄膜をつくるCVDという工程があります。その工程で使用される成膜装置の高熱・高電圧箇所の冷却用途にフッ素系不活性液体が使われています。そのフッ素系不活性液体の配管の切り離し箇所で流体・油空圧用カップリングが採用されています。

従来、その配管の切り離し箇所は半導体業界で使用される一般的な継手を使用していましたが、年1回の装置メンテナンス時の配管切り離し時に液ダレがあり、エンドユーザーである半導体メーカーからメンテナンス時においても配管の切り離し時にはフッ素系不活性液体を外に漏らさないよう強い要望を受けていました。

エンドユーザーである半導体メーカーからの強い要望を受け、丸紅エレネクストの「液ダレしないカップリング」を採用しました。

現在使用中の継手と同等以上の気密性を維持しながらワンタッチで着脱ができ、着脱時の外部への液ダレがなくなりました。

また、今回採用したカップリングには誤接続防止機構のオプションも付いており、成膜装置へのフッ素系不活性液体の供給（イン）用と排出（アウト）用の配管の接続箇所が1ラインに2本あります。人の手による接続なので接続ミスのリスクがありましたが、誤接続防止機構のおかげで人為的な接続ミスも防げるようになりました。